EUV 光刻機耗能巨大，3 年后臺積電將吃掉中國臺灣 12% 電力
8 月 26 日消息，據(jù)彭博社報道，ASML 新一代 EUV 光刻機每臺耗電約 1 百萬瓦，約為前幾代設(shè)備的 10 倍，依賴該設(shè)備生產(chǎn)芯片的三星、臺積電等芯片制造大廠能源消耗巨大，芯片行業(yè)可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。
報道稱，臺積電擁有業(yè)界最多的 80 臺 EUV 設(shè)備，而且正在安裝新一代設(shè)備，是吃電大戶，預(yù)計 2025 年將占中國臺灣省整體能源消耗的 12.5%，較 2020 年的 6% 高一倍還多。除了臺積電外，美光在中國臺灣也使用至少一種 EUV 設(shè)備。彭博分析師 Charles Shum 預(yù)估，在 3 年內(nèi)，臺灣代工廠四分之一的芯片制造都需要 EUV 設(shè)備。
IT之家了解到，臺積電生產(chǎn)對于環(huán)境的影響程度，主要取決于發(fā)電來源。業(yè)內(nèi)人士指出，中國臺灣有許多需要運行如此高耗能設(shè)備的芯片廠，使得可再生能源變得重要和緊迫，但臺灣卻嚴重依賴化石燃料。據(jù)報道，中國臺灣 2016 年制定一個目標，到了 2025 年，其中 20% 電力來自可再生能源。然而，從 7 月的最新能源審查顯示，截至 2021 年底，只有 6% 電力來自可再生能源，促使其下調(diào) 2025 年的目標至 15%。
整體來說，雖然有機會找到用更環(huán)保的方式制造芯片，但沒有任何廠商愿意放慢腳步。
編輯：ZQY 最后修改時間：2022-09-08
